Industrijski podovi za kemijsku i farmaceutsku industriju

Sikafloor®-381

Zaštitni premaz na bazi epoksidne smole visoke kemijske otpornosti. Primjena: za izradu kemijski ekstremno opterećenih obloga na betonu ili cementnom estrihu. Za prostorije i bazene za prikupljanje otpadnih voda, industrijskih podova, kemijskoj, farmaceutskoj industriji i laboratorijima, i sl. (Antistatik verzija na upit). Temeljni premaz: Sikafloor-156 Komponenta C (max. 20%) za glatki i protuklizni pod: Kvarcni pijesak (0,1-0,3 mm) Posip: Kvarcni pijesak granulacije od 0,1-0,5 mm, od 0,3-0,8 mm ili od 0,7-1,2 mm Alat za ugradnju: zupčasti gleter s duplim listom i ježasti valjak. Razrjeđivač i čišćenje: Razrjeđivač C. 

Sikafloor®-21 N PurCem®

Trokomponentni, poliuretanom obogaćeni mort za podne obloge izuzetne kemijske i mehaničke otpornosti. 

Sikafloor®-156

Bezbojni temeljni epoksidni premaz i vezivno sredstvo. Bez otapala. Primjenjuje se kao temeljni premaz na betonu, kamenu, mortu, žbuci prije nanošenja Sikadur mortova, Sikafloor epoksidnih i PU obloga te kao vezivno sredstvo za izradu epoksidnih estriha. Ugradnja se vrši najlonskim valjkom, četkom ili gleterom. Čišćenje se radi razrjeđivačem C. 

Sikafloor®-161 new

Ekonomični temeljni epoksidni premaz i vezivno sredstvo. Bez otapala. Primjena: kao temeljni premaz na betonu, kamenu, mortu, žbuci prije nanošenja Sikadur mortova, Sikafloor 263 SL , Sikafloor 264 i kao vezivno sredstvo za izradu epoksidnih estriha. Ugradnja: najlonskim valjkom, četkom ili gleterom. Čišćenje: Razrjeđivač C. 

Sikafloor®-2420

Bezbojni temeljni epoksidni premaz za neupojne podloge i impregnacija za betonske površine. Bez otapala. Primjena: kao temeljni premaz na betonu, kamenu, neupojnim mineralnim površinama npr. keramičke pločice i visoko zaglađeni betoni za Sikafloor epoksidne i PU obloge. Impregnacija betona radi zaštite od atmosferskih utjecaja i soli 2-3 sloja. Kod visoko neupojnih površina dodati do 50% Sika razrjeđivača C. Ugradnja: najlonskim valjkom, četkom ili gleterom. Čišćenje: Razrjeđivač C.